ITC系列薄膜沉积控制仪为薄膜沉积过程中膜厚精确实时测量而设计，可以用于监控热蒸发、磁控溅射、分子束外延(MBE)、PECVD、MOCVD等薄膜沉积过程中的膜厚。

随着纳米光电技术的发展，利用热蒸发器，制备先进的OLED、QLED、OPV、钙钛矿LED、光学镀膜等方面的需求越来越大。在这些器件中，每一层的厚度只有几埃到几百纳米，甚至有些层还会有2-4种材料的掺杂沉积，这就增加了用户控制每一层的组成材料和厚度的难度。使用ITC系列薄膜沉积控制仪，用户只需预先设定沉积参数，并控制ITC软件半自动或全自动的完成蒸发过程。